釕 回收
02月19日金屬釕回收價格行情參考
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金屬釕(Ru)有或許作為集成電路中銅互連阻擋層新材料和動態(tài)隨機存儲器(DRAM)設備中的底電極材料,但是阻擋層和底電極的表面需要平整化。目前化學機械拋光(CMP)技能能夠?qū)崿F(xiàn)大局平整化,因此對釕回收學機械拋光研討具有重要意義。本文選用不同系統(tǒng)拋光液對金屬釕進行化學機械拋光試驗,調(diào)查不同拋光液組分對金屬釕拋光速率和表面質(zhì)量的影響,并使用電化學工作站和X射線光電子能譜儀剖析拋光液中首要成分對金屬釕腐蝕作用的影響
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